第一六六七章 浸没式光刻机面世[2/2页]

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    有了技术瓶颈，光刻机的发展一马平川，GCA被业界公认一枝独秀。

    Nikon和Canon投入巨资研发157nm激光器，到如今还没有消息。

    2001年6月，ASML投资10亿美元并购SVG后，SVG拥有157nm激光的反折射镜头技术，ASML的技术实力大增，研发157nm激光器的同时，2002年8月，采纳林本坚博士提出的“浸润原理”，投入巨资，同台积电合作，联合开发浸没式光刻机。

    ASML采用两条腿走路。

    ASML拥有全球第二款双工作台系统，技术实力仅次于GCA和Nikon，一旦研发成功134nm波长的浸没式光刻机，技术实力就会超过Nikon。

    虽然浸入式光刻机的构思非常巧妙，但同EUC光刻机相比，从工程角度看，并不难完成，

    邓国辉和钱富强都担心ASML赶在BSEC的前面发布研发成功浸没式光刻机，但一想到孙董事长旗下公司是ASML的第二大股东，就放下心来。

    5月28日，GCA

    EUV光刻机公司对外公开宣布，经过二年多的潜心研发，EUV光刻机的核心部件EUV激光器研制成功，并通过专家组的鉴定，并申请了国际发明专利，并向媒体展示了一台EUV激光器和一台EUV光刻机原型机。

    EUV激光器获取EUV光源的办法是将二氧化碳激光照射在锡等靶材上，激发出的光子，作为光刻机光源。

    EUV激光器和EUV光刻机原型机在全球引起极大的轰动，阻碍全球半导体产业发展的技术瓶颈被美国科学家攻克。

    GCA同时宣布，GCA

    EUV光刻机的量产还需要很长的时间。

    得到消息的魏建国、邓国辉和钱富强都知道BSEC公开推出浸没式光刻机不远了。

    工程院院士候选人不受理个人申请，需要通过院士或有关学术团体提名，也可以同时通过以上两种渠道提名。

    钱富强研究员在全球顶尖光刻机期刊上发表了30多篇专业论文，在全球光刻机光源行业具有极高的威望，主持研发成功的浸没式光刻机是全球首创，国际领先技术，具有百亿美元的市场价值。

    京城半导体集团拥有4名光刻机专业顶尖的院士。

    邓国辉院士担任光刻机协会会长，还担任国家光刻机专家组主任委员，欧阳明院士、陈伟长院士和夏季常院士担任国家光刻机专家组副主任委员，钱富强研究员担任光刻机协会秘书长。

    浸没式光刻机经过专家组鉴定只是走程序。

    “邓总，马上组织光刻机专家组成员鉴定，鉴定通过后，申请公司发明专利。”

    “好的，董事长！”

    魏建国知道浸没式光刻机的来龙去脉，一直保守秘密。

    BSEC从1999年8月开始立项，投资1亿元，邓国辉和钱富强带领光刻机光源研究所，静下心来开始研发EUV，虽然快4年过去，前后花费3.6亿元，还没有研发成功EUV，但光源研究所的科研成果丰硕，申请了165项公司发明专利（其中4项核心发明专利），研发成功具有自主知识产权的浸没式光刻机所需的光学系统，并生产了3台浸没式光刻机试验机，只等孙董事长一声令下，BSEC随时可以量产。

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